EVG6200 NT掩模對準光刻系統 特色：EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

IQ Aligner 自動掩模對準系統 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻，進行了處理和優化，用于晶圓片的尺寸高達200毫米。

EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610（單面/雙面掩模對準光刻機 微流控 納米壓?。┲С指鞣N標準光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準方式。此外，該系統還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶需求，轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶，非常適合大學和研發應用。